?近30年來，ABB以高靈敏度氣體分析儀的解決方案服務著全球領先的半導體制造企業

?ABB的解決方案能夠精準控制濕法工藝，并監測潔凈室中的痕量級氣態污染物

?氣體實時監測有助于降低晶圓損壞風險，保障晶圓良率

近30年來，ABB以高靈敏度氣體分析儀的解決方案持續為全球半導體芯片制造企業提供先進技術支持。ABB較早地采用傅立葉變換近紅外光譜過程分析儀服務半導體濕法工藝控制，幫助半導體設備制造商優化浴槽使用壽命，將污染風險降至最低。近年來，ABB進一步擴展半導體行業產品組合，推出基于離軸積分腔輸出光譜（OA-ICOS）技術的分析儀解決方案，以滿足行業另一關鍵需求：監測潔凈室中的痕量級氣態污染物，保障操作人員安全，防止代價高昂的晶圓報廢。

ABB測量與分析業務單元半導體行業全球產品經理張乃正表示：“過去10年間，我們在中國、韓國、日本等地已安裝數百套設備，為眾多領先芯片制造商提供支持。半導體制造既需要對痕量級AMC進行監測，也需要對濕法工藝進行精確控制，以提高生產良率、降低晶圓損壞風險。正因如此，ABB的高靈敏度技術至關重要。”

基于OA-ICOS技術的GLA231系列解決方案，能夠實時精準測量氟化氫、氯化氫和氨氣。這三種關鍵的高純度化學氣體廣泛應用于半導體制造中的蝕刻、清洗和沉積工藝。與傳統光譜技術相比，OA-ICOS技術具有諸多優勢，包括堅固耐用可靠、測量時間更短以及易于現場維護等。

 （ABB 半導體潔凈室氣體監測解決方案系列）

多年來，ABB的氣體分析儀為多家全球領先的半導體巨頭提供了有力的技術支撐，助力其監測潔凈室氣體監測，檢測出濃度極低的化學物質。

ABB同時為該地區眾多半導體設備商提供濕法工藝監測分析儀，包括經廣泛應用驗證的FTPA2000-SC系列、TALYS ASP300系列和TALYS ADP300系列。其中，TALYS ASP300系列采用寬譜紅外光譜技術，代表了ABB面向半導體行業的全新一代過程分析儀。該分析儀非常適用于濕法蝕刻、清洗及光刻膠去除浴槽的實時在線監測，能夠連續監測化學品濃度。一旦檢測到濃度異常變化，系統會立即觸發報警，以便及時采取糾正措施。

（ABB 半導體濕法工藝監測解決方案系列）

這種實時監測能力有助于降低晶圓損壞風險，并保障穩定如一的生產質量。高精度的測量結果使設備操作人員和工程師能夠延長化學浴槽的使用壽命，減少總體化學品消耗，同時最大限度減少異常事件的發生。

此外，TALYS ADP300系列提供經濟實惠、高性能的雙通道濕法浴槽監測分析。該雙通道分析系統在關鍵性能上實現提升，可同時進行兩路測量。

ABB致力于以電氣和自動化技術，致力于賦能更可持續與高效發展的未來。通過融合工程經驗與數字化技術，ABB幫助各行業高效運營，提升能源效率與生產效率，促進可持續發展，成就卓越，工誠臻遠。ABB擁有140余年歷史，全球員工約11萬名。ABB在瑞士證券交易所（SIX Swiss Exchange: ABBN）和納斯達克斯德哥爾摩證券交易所（Nasdaq Stockholm: ABB）上市。

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